第二百二十三章：技术瓶颈（2/2）

毕竟如果他中途离职，肯定不能继续享受，公司给他们的住房福利，要知道购房分期付款，所要支付的利息，可绝对是一笔很大的数字。

国为公司为什么要迁到邻近的东完市，最重要的原因，不就是因为深川市的房价太高了吗？

欧阳德和为什么要到东完市买地，建家具产业园，不也是因为深川市的土地，价格太贵了吗？

瑞阳市的星光科技园，早已经建成投产了，星光科技集团的半导体芯片公司，接到了大量国内外的客户订单，正开足马力生产。

光刻机，蚀刻机等的订单，也非常饱和，全球已经进入了移动智能化时代，芯片的市场很大，很多行业都离不开芯片，比如手机，电脑，汽车，等行业，要想升级智能化，芯片是必须用到的，而全球有能力生产晶圆的企业，是有数的，所以芯片绝对是供不应求的。

别说是整个全球了，仅华夏的市场，芯片就已经是供不应求了。

而在研发技术方面，星光科技集团也是不遣余力的投入巨资，如今已经实现了22纳米制程工艺的光刻机量产。

但浸润式duv光刻机的极限，也就是22纳米的制程工艺了，通过重复的暴光技术，在顶级制程技术和顶级材料的配合下，勉强可以加工生产出7至5纳米制程工艺的芯片。

这个技术可以说是已经超越了浸润式光刻机的极限了，再想更精密，基本上不可能了。

而要想生产出更高制程工艺技术的光刻机，则只能是极深紫外线的euv光刻机技术了。

而euv光刻机技术，河兰阿斯慢公司虽然已经研究出来了，并且已经投产了，但其实性能并不是很稳定，产能很低，技术尚且不成熟。

一直到二零一六年，河兰阿斯慢公司才完成了，对euv光刻机技术的突破，并最终实现了euv光刻机的量产，一举垄断了全球的euv光刻机市场。

星光科技集团想要研发euv光刻机技术，难度可以说是非常的大，而且这也不仅仅只是投资多少研发费用的问题。

135n引领下一代光源，新技术面临巨大挑战，更先进的 euv光刻系统，采用波长为135n的极紫外光作为曝光光源，是之前193n的114。

该光源被称为激光等离子体光源，是通过用高功率二氧化碳激光器激发锡（sn）金属液滴，通过高价sn离子能级间的跃迁获得135n波长的辐射。

除了这些问题之外，该光源的稳定性和聚光元件的保护，也是巨大的挑战。

因为用于激发的激光器本身存在抖动，激光与等离子体作用时产生的污染将会对光源聚光元件造成影响和破坏。